我就是光电所的，我们这个设备实现了激光束22纳米（国内肯定是领先的，当然国际上落后），可以做简单的线，点，光栅部件，拿来做刻芯片这种超级复杂的ic制造是完全没有可能的，那个难度是画简单线的十万倍，因为还需要高精度镜头和高精度对准技术，我们这个设备立项本来就不是拿来刻芯片的，有人说我们骗，我们光电所什么时候宣传过这个设备可以刻芯片了，都是外界一些什么都不懂的外行一厢情愿的以为这个就是芯片厂的光刻机，和我们没有任何关系。
我就是光电所的，我们这个设备实现了激光束22纳米（国内肯定是领先的，当然国际上落后），可以做简单的线，点，光栅部件，拿来做刻芯片这种超级复杂的ic制造是完全没有可能的，那个难度是画简单线的十万倍，因为还需要高精度镜头和高精度对准技术，我们这个设备立项本来就不是拿来刻芯片的，有人说我们骗，我们光电所什么时候宣传过这个设备可以刻芯片了，都是外界一些什么都不懂的外行一厢情愿的以为这个就是芯片厂的光刻机，和我们没有任何关系。